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반도체 제조 장치
출원인 극동대학교 산학협력단 출원일 2016-04-19 특허 등록일 2020-03-17
첨부파일
증기 세척 방식을 이용하여 기판을 세척하는 세척 공정 챔버; 원자층 증착법을 이용하여 상기 기판 상부에 플라 즈마 패시베이션 막을 형성하는 PEALD 공정 챔버; 및 상기 플라즈마 패시베이션 막 상부에 절연층을 형성하는 열 ALD 공정 챔버를 포함하는 반도체 제조 장치가 개시된다.


자료출처 : KIPRIS (https://www.kipris.or.kr)
 
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